Photoveel II / Photoveel II-S

Photoveel II / Photoveel II-S — Ferrotec
制造商Ferrotec
产品型号Photoveel II / Photoveel II-S

Photoveel II 与 Photoveel II-S 是推动新世代探针卡的材料,可加工出孔径小至 40 微米、间距 60 微米的孔。

提供多种热膨胀系数范围。

孔径可小至 30 微米

规格表:

细晶粒结构

优异的机械性质以达成高精度

规格

特性单位Photoveel IIPhotoveel II-S
主成分纯度wt%––
颜色–浅灰色浅灰色/黑色
密度g/cm³2.563.5
吸水率%00
抗弯强度MPa440320
杨氏模数GPa157130
维氏硬度GPa2.32.3
最高使用温度°C1000(非氧化环境)1000(非氧化环境)
平均热膨胀系数10−6/°C1.4(室温–400 °C)4.7(室温–150 °C)
热传导系数W/m·K5023
耐热冲击性ΔT (°C)600400
体积电阻率 @25 °CΩ·cm10151015
体积电阻率 @300 °CΩ·cm10141011
体积电阻率 @500 °CΩ·cm1011107
体积电阻率 @800 °CΩ·cm107104
介电常数(1 GHz)–5.59.0
介电损耗(1 GHz)10−41025
Q 值(1 GHz)1040.100.04
介电崩溃电压kV/mm3530
主要特性–高强度;低热膨胀;可精密加工高强度;热膨胀接近硅;可精密加工

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